在半导体行业的生产中,超纯水扮演重要角色。一个大型Fab工厂,在半导体制造过程中每天需使用5～6万吨超纯水,接近一个百万人口城市每天的用水量。当芯片的精密度越来越高,超纯水作为生产环节中的关键角色,对水质纯度的要求也越来越高。而相应的制备技术也迅速发展起来,已成为工业用水中应用广泛的一个核心门类。

超纯水与芯片生产“环环相扣”

超纯水是指电阻率达到18 MΩ*cm(25℃)的水。这种水中除了水分子外,几乎没有什么杂质,更没有细菌、病毒、含氯二噁英等有机物,也就是几乎去除氧和氢以外所有原子的水。

芯片虽小,却承载数十亿的纳米级晶体管,在其纷繁复杂的生产中,超纯水主要用于清洗硅片,少量用于配制药剂、硅片氧化的蒸汽源、某些设备的冷却水和电镀溶液,与集成电路产品的质量与产量密切相关。

超纯水与芯片生产关系紧密,例如60～80纳米制程里清洗工艺约有100个步骤,10～20纳米制程里清洗工艺约有200个以上步骤,工艺制程越高,需要的清洗工艺环节越多,清洗频率也越高;同时随着半导体工艺节点的缩小,整个清洗步骤次数约以15%的速度增加。

目前,我国国家电子级水(高纯水)标准将“高纯水”分为四个等级,分别为电阻率18MΩ·cm以上、15MΩ·cm、12MΩ·cm、0.5MΩ·cm;美国ATSM根据超纯水电阻率18.3MΩ·cm的理论极限值,将18.1MΩ·cm以上的超纯水用水标准再细化为四个细分等级,成为当前电子和半导体行业常规参考的用水要求。

可想而知,超纯水的指标要求越高,背后的制备工艺也越为繁复,对超纯水系统的要求也更为严苛。

探索领先超纯工艺,高频科技厚积薄发

近年来,伴随芯片市场的崛起,也为超纯工艺技术企业带来广阔的机遇与挑战,高频科技不断探索超纯水的绝对纯度,从多介质过滤、活性炭吸附、离子交换、反渗透膜、紫外线杀菌、紫外线TOC去除,再到电渗析、超滤、钠滤、真空脱气塔、膜脱气等,涵盖不止于18项专业处理工艺环节不断提升超纯水系统的应用效率,并在反渗透、离子交换、膜脱气、紫外线杀菌和TOC降解等多项关键技术产品材料中也有着行业性的应用创新成果。产水水质接近绝对纯度,电导率无限接近18.24MΩ•厘米的理论极限值,其纯度可达99.9999999999%,不断满足半导体行业日趋提升的用水需求,并以此塑造了强大的行业技术壁垒,在国内超纯工艺领域中厚积薄发,生根发芽。

高频科技作为国家高新技术企业和中关村高新技术企业,立足于行业领先的超纯工艺技术能力,秉承“专业敬业,正直担当,持续精进,成就彼此”的企业价值观,专注于芯片、显示等半导体高端制造业二十多年,为行业客户提供行业领先的超纯水与循环再生解决方案及装备,建立完善的超纯工艺产业链,广泛应用于芯片生产、封装测试、显示电子等半导体领域,为客户提供满足超纯要求且可持续发展的水环境。

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